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產(chǎn)品中心同位素分析實驗耗材及設(shè)備清洗器ZH-GQXL-4L同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L
產(chǎn)品簡介
同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L小瓶清洗系統(tǒng)是清洗實驗室器皿安全、有效的方法。用于消除小型PFA溶樣罐和燒杯上的樣品殘留。
產(chǎn)品分類
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PFA清洗罐
小瓶清洗系統(tǒng)是清洗實驗室器皿安全、有效的方法。用于消除小型PFA溶樣罐和燒杯上的樣品殘留。
該清洗系統(tǒng)由高純PFA材質(zhì)制成，專為熱浸泡清洗設(shè)計，與傳統(tǒng)玻璃燒杯相比，更結(jié)實耐用。該小瓶清洗系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，可以消除空氣引入的污染，同時避免酸揮發(fā)引起的環(huán)境污染?？刹鹦兜牡顾峥冢砂踩钩鏊嵋?，便于取出實驗器皿。
小瓶清洗系統(tǒng)搭配實驗室電熱板使用，可清洗各種實驗室器皿。清洗液可用皂液或無機酸。所有接觸酸的部件均由高純PFA制成。將待清洗的器皿和清洗液放入容量為4L的系統(tǒng)中，放置電熱板上加熱。清洗桶的蓋子上帶有放氣閥，避免加熱時桶內(nèi)產(chǎn)生高壓。該系統(tǒng)可保持亞沸狀態(tài)連續(xù)加熱數(shù)天，而不引起酸的揮發(fā)，無需實驗人員監(jiān)控.節(jié)省人力成本，同時節(jié)省酸的消耗。可拆卸的倒酸口，可安全倒出酸液，便于取出實驗器皿。小瓶清洗系統(tǒng)可耐受所有的無機酸，可在稀釋酸的沸點或近沸點使用。
同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L
使用注意事項：
1.小瓶清洗系統(tǒng)的加熱溫度不能高于450℉（230℃）。超過此溫度，將對清洗系統(tǒng)帶來不可逆的損壞。
2.小瓶清洗系統(tǒng)非耐壓容器，在加熱時須保證放氣孔不密閉。必須在通風(fēng)櫥內(nèi)加熱。小瓶清洗系統(tǒng)不能干燒，否則高溫會引起不可逆的損壞。
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